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抗干扰技术的抗干扰技术
1、下面介绍几种常用的、行之有效的抗干扰技术。屏蔽技术 利用金属材料制成容器．将需要保护的电路包在其中，可以有效防止电场或磁场的干扰，此种方法称为屏蔽。屏蔽又可分为静电屏蔽、电磁屏蔽和低频磁屏蔽等。
2、抑制干扰的措施主要包括屏蔽、隔离、滤波、接地和软件处理等方法 屏蔽 利用导电或导磁材料制成的盒状或壳状屏蔽体，将干扰源或干扰对象包围起来从而割断或削弱干扰场的空间耦合通道，阻止其电磁能量的传输。
3、吸波技术是一种电磁波抗干扰技术，它可以有效地吸收电磁波，减少电磁干扰对电子设备的影响。吸波材料是吸波技术的核心，它可以将电磁波转化为热能或电能，从而实现吸波效果。
简述背景干扰消除方法及原理
）改变火焰温度 对于生成难熔、难解离化合物的干扰，可以通过改变火焰的种类、提高火焰的温度来消除。如在空气-乙炔火焰的PO43-对该的测定有干扰，当改用氧化二氮-乙炔火焰后，提高火焰温度，可消除此类干扰。
使用干扰元素的氢化物或氯化物掩蔽剂：可掩盖样品中与待测元素有相似吸收特性的元素或化合物，使其不被原子吸收光谱检测。调整灵敏度：通过调整灵敏度、光路等控制方法，调整分析环境，降低干扰因素的影响。
由此，可以认为氘灯测出的主要是背景吸收信号，空心阴极灯测的是原子吸收和背景信号，两者相减得到原子吸收值。氘灯校正法已广泛应用于原子吸收光谱仪器中，氘灯校正的波长和原子吸收波长相同，校正效果显然比非共振线法好。
干扰效应及消除方法
1、消除电离干扰的方法是加入过量的消电离剂。消电离剂是比被测元素电离电位低的元素，相同条件下消电离剂首先电离，产生大量的电子，抑制被测元素的电离。
2、消除方法最常用的是加入稀释剂和保护剂。如果仍不能消除其干扰，只好采用萃取、沉淀、离子交换等分离方法，提前将干扰或待测离子分离出去，然后再进行测定。
3、消除方法 样品预处理：样品等离子形成能力的改变，比如加入化学剂或添加适当滴定剂，使样品离子化的形态更加稳定和一致。
4、由于产生化学干扰的因素多种多样，消除干扰的方法要是具体情况而不同，常用以下方法：1）改变火焰温度 对于生成难熔、难解离化合物的干扰，可以通过改变火焰的种类、提高火焰的温度来消除。
5、多原子离子、双电荷离子；另一类是非质谱型干扰，主要包括物理干扰、基体效应、记忆效应等。干扰的消除和校正方法有优化仪器参数、内标校正法、干扰方程校正、采用碰撞反应池技术、稀释校正、采用标准加入法等。
简述背景干扰消除方法及原理?
1、）改变火焰温度 对于生成难熔、难解离化合物的干扰，可以通过改变火焰的种类、提高火焰的温度来消除。如在空气-乙炔火焰的PO43-对该的测定有干扰，当改用氧化二氮-乙炔火焰后，提高火焰温度，可消除此类干扰。
2、适当提高火焰温度，可以抑制或避免某些化学干扰。例如采用高温氧化亚氮-乙炔火焰，使某些难挥发、难离解的金属盐类、氧化物、氢氧化物原子化效率提高。
3、原子吸收光谱法中扣除背景方法通常有三大类： 连续光源校正背景， 空心阴极灯自吸效应校 正背景，塞曼效应校正背景。(1)连续光源校正背景。当待测元素波长在紫外波段(180-400nm)，采用氘灯或氘空心阴 极灯。
4、消除方法最常用的是加入稀释剂和保护剂。如果仍不能消除其干扰，只好采用萃取、沉淀、离子交换等分离方法，提前将干扰或待测离子分离出去，然后再进行测定。
5、在原子吸收光谱分析中，常见的干扰因素和消除方法如下：干扰因素 基体效应：样品基质中存在的一些元素或基质化合物，其吸收特性与所测试的元素相同或相近，会干扰分析结果。